번호 | 제목 |
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8 |
EUV 리소그래피 공정에서 미세 오염입자에 의한 영향 및 오염입자 제거를 위한 세정공정 연구 박진구, 오혜근, 김인선, 김민수, 김현태, 이준, 최인찬, 장성해 한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
7 |
기능수 세정액을 이용한 메가소닉의 주파수 변화에 따른 미세오염입자 제거에 대한 연구 최인찬, 이준, 김민수, 박진구 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
6 |
액정 패널 제작공정 중 발생하는 submicron 오염입자 제거에 대한 FPD 세정공정의 개발 및 연구 이준, 김현태, 김민수, 박진구 한국재료학회 2014년 가을 학술대회 |
5 |
메가소닉 세정공정에서 세정액내 첨가 가스의 특성이 미세오염입자 제거효율에 미치는 영향 이준, 김향란, 김동하, 박진구 한국재료학회 2014년 봄 학술대회 |
4 |
IPA를 첨가한 세정액 내에서의 acoustic cavitation 거동 연구 김향란, 강봉균, 김민수, 박진구 한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
3 |
GaN 기판상의 오염물 제거를 위한 세정공정에 대한 연구 김현태, 김민수, 강봉균, 조윤식, 김현준, 김경준, 박진구 한국재료학회 2013년 봄 학술대회 |
2 |
메가소닉 주파수의 변화가 나노입자제거에 미치는 영향 김혁민, 강봉균, 이승호, 김정인, 이희명, 박진구 한국재료학회 2009년 가을 학술대회 |
1 |
반도체 세정액 내 용존 수소 가스가 웨이퍼 세정에 미치는 영향 김혁민, 강봉균, 이승호, 박진구, 최은석, 김인정, 김봉우 한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |