화학공학소재연구정보센터
번호 제목
2 First principles study on selective etching of silicon nitride over silicon dioxide by phosphoric acid
박소용, 정현욱, 김준엽, 한병찬
한국재료학회 2021년 봄 학술대회
1 Characteristics of Silicon Nitride Deposited by VHF-PECVD using a Multi-tile Push-pull Plasma Source
김기석, 김기현, 지유진, 염근영
한국재료학회 2016년 가을 학술대회