| 번호 | 제목 |
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The comparison of Atomic Layer Deposited nickel Oxides using Ni(dmamb)2 precursor and H2O, O3 oxidants. 조영준, 장효식 한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
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N2/He Plasma Inhibitor 개발을 통한 공간 분할 PE-ALD시스템에서의 메모리 Gap-fill공정 설계 이백주, 서동원, 황재순, 최재욱 한국재료학회 2021년 봄 학술대회 |
| 2 |
The Chracteristics of SiO2 Thin Film Deposited by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using BTBAS precursor Hyeongtag Jeon, Honggi Kim 한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
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Crystallinity and energy band structure of atomic layer deposited ZrO2 films using Cp-Zr precursor Hyoseok Song, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
