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SiO2용 TEOS/O2 플라즈마 반응기에서의 미립자 성장의 실험적 분석 홍성택, 김교선 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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RF 플라즈마를 이용한 Si wafer 유기화합물의 제거실험에 관한 연구 정미희, 최호석 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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TEOS/O2 용 플라즈마 반응기에서의 미립자 성장의 실험적 분석 홍성택, 김동주, 김교선 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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Synthesis and Purification of carbon nanotubes 홍원해, 박동화 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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기체의 전자 충격에 의한 이온화에 관한 연구|A Study on the Electron-Impact Ionization of Gases 김학금|Hag-Geum Kim 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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Cl2/Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 ZnO박막의 식각 특성|Etch Characteristics of ZnO films in Cl2 based 박진수, 임연호, 최창선, 김태희, 한윤봉|J. S. Park, Y. H. Im, C. S. Choi, T. H. Kim and Y.B. Hahn 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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열플라즈마를 이용한 SiO2-TiO2 나노분말의 제조|Preparation of SiO2-TiO2 Nano-Particles by Thermal Plasma 공정구, 오성민, 박동화|Jeong-Gu Gong, Seung-Min Oh, Dong-Wha Park 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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반도체 폐가스처리를 위한 열플라즈마 공정 개발|Development of thermal plasma processing for treatment of the semiconductor waste gas 선종우, 박동화|Jong-Woo Sun, Dong-Wha Park 한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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저온 플라즈마를 이용한 질소산화물 제거공정에서 탄화수소 첨가제의 영향|Effect of Hydrocarbon Additive on Non-Thermal Plasma Oxidation of NO 목영선, 김병기, 함성원, 남인식, 장래웅|Y. S. Mok, B. K. Kim, S. W. Ham, I. Nam, R. W. Chang 한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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CHF3 플라즈마 고분자에 의한 복합막 제조|The Preparation of Composite Membranes by using Plasma Polymer of CHF3 현상원, 전법주, 윤용수, 정일현|Sang-Won Hyun, Bup-Ju Jeon, Yong-Soo Yoon, Il-Hyun Jung 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |