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투명 박막 트랜지스터 활성층 제조에 있어 원자층 증착법과 스퍼터링법으로 성장한 산화아연 박막의 물성 비교
임성준, 김형준
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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TMA 와 H2O 를 사용하여 나노 스케일로 alumina가 코팅된 BaMgAl10O17:Eu2+ 형광체 분말의 발광 특성(Luminescent Properties of BaMgAl10O17:Eu2+ Phosphor Coated with nanoscaled alumina using TMA and H2O)
김혁종, 김형수, 김휴석, 정영규, 김석환, 이상우, 최병호
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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원자층 증착법을 이용한 촉매입자와 미세반응기 표면의 접착성 증진
고창현, 정헌도, 송헌일, 한상섭, 조순행, 김종남
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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원자층 증착법을 이용한 황화카드뮴 박막 형성
고창현, 한상섭, 조순행, 김종남
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions
김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구|The Characteristics of HfO2 Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods.
김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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원자층 증착법으로 SiO2 박막이 코팅된 BaMgAl10O17:Eu2+ 형광체 분말의 발광 특성 향상|Improvement of Luminescent Properties of BaMgAl10O17:Eu2+ Phosphor Powder Coated SiO2 Thin Films by Atomic Layer Deposition
김휴석, 김민완, 김형수, 김혁종, 정영규, 김석환, 이상우, 최병호
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Investigation of WN growth by Atomic Layer Deposition using a new precursor ; (t-BuN)2(NMeEt)2W
김은정, 김도형
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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Preparation of TaN thin film By H2 Plasma Assisted Atomic Layer Deposition usingTert-butylimino-tris-ethylmethylamino tantalum
김등관, 김도형
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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45 nm 테크놀로지와 그 이후를 위한 금속계 나노 박막의 원자층 증착법|ALD of metal nanofilms for 45 nm technology and beyond
김형준
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
