화학공학소재연구정보센터
번호 제목
24 Non-saturated Atomic Layer Deposition for Composition Adjustment in Al2O3-HfO2 Thin Films
정회성, 김지혜, 강상원
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
23 Electrical properties of lanthanum hafnium oxide thin films deposited by electron cyclotron resonance atomic layer deposition
김웅선, 고명균, 김태섭, 박상균, 박종완
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
22 Fabrication of well-ordered diblock copolymer nanotemplates using surface neutralization by self assembled monolayer and their applications
김수진, 이성균, 맹완주, 박대호, 손병혁, 김형준
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
21 SiO2 RF power와 증착 시간 변화에 따른 고유전 TiO2-SiO2 절연막의 특성(Effects of SiO2 RF power and deposition time in high-k TiO2-SiO2 dielectric layers)
김성연, 함문호, 명재민
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
20 Block Copolymer Micelle 템플릿을 이용한 Metal Nanocrystal Floating Gate Memory 특성 연구
이치영, 권정화, 정석진, 이장식, 손병혁, 이재갑
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
19 Al Atom Migration in LaAlO3 Thin Film during Thermal Treatment
엄다일, 황철성, 김형준
한국재료학회 2007년 봄 학술대회
18 HfO2 게이트 유전막을 이용한 GaN 나노선 FET의 특성(Characteristics of GaN nanowire transistors with hafnium oxide dielectrics)
이재웅, 함문호, 명재민
한국재료학회 2006년 가을 학술대회
17 Sputter를 이용하여 상온에서 제작된 고유전 Ti1-xSixO2 게이트 절연막 (Room temperature fabricated high-k Ti1-xSixO2 gate dielectrics prepared by sputtering)
김성연, 함문호, 오병윤, 명재민
한국재료학회 2006년 가을 학술대회
16 전처리에 따른 HfO2 MOS-Cap의 전기적 특성 평가
양대준, 김주연, 손영준, 김현철, 김영배, 최덕균
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
15 RF magnetron sputter로 성장시킨 고유전 TiO2:SiO2 박막의 특성(Properties of high-k TiO2:SiO2 films grown by RF magnetron sputter)
김성연, 오병윤, 함문호, 명재민
한국재료학회 2006년 봄 학술대회