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번호	제목
15	초미세 메모리 커패시터의 전극형성을 위한 식각 기술\|Patterning issues for the fabrication of sub-micron memory capacitors' electrodes 김현우 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
14	ALD법으로 증착된 실리콘 절연박막의 물리적·전기적 특성\|Physical and Electrical Characteristics of Silicon Dielectric Thin Films by Atomic layer Deposition 한창희, 이주현, 김운중, 이원준, 나사균 한국재료학회 2003년 가을 학술대회
13	MRAM 응용을 위한 강자성 박막재료의 고밀도 플라즈마 식각 박형조, 라현욱, 한윤봉 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회
12	Angular dependences of etch rates of Si and fluorocarbon polymer in SF₆, C₄F₈, and O₂ plasmas for advanced Bosch process 민재호, 이겨레, 이진관, 문상흡 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회
11	CHF3 플라즈마에서 다공성 저유전율 물질 식각의 각도 의존성\|Angular Dependence of Porous Low-k Material Etch Rate in a CHF3 Plasma 황성욱,이겨레,민재호,문상흡\|Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Jae-Ho Min,Sang Heup Moon 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
10	MRAM 응용을 위한 자기박막의 고밀도 플라즈마 식각\|High-Density Plasma Etching of Magnetic Films for MRAM Applications 박형조,한윤봉\|Hyung-Jo Park,Yoon-Bong Hahn 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
9	나노 크기의 InGaN/GaN 다층양자우물 LED의 제조\|Fabrication of Nano Multiple Quantum Well InGaN/GaN Light-Emitting Diodes 한윤봉\|Y. B. Hahn 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회
8	InGaN/GaN 다층양자우물 LED구조의 Cl2/Ar ICP 식각\|Inductively Coupled Cl2/Ar Plasma Etching of InGaN/GaN Multiple Quantum well Light-Emitting Diode Structure 박형조, 최창선, 최락준, 홍주형, 한윤봉\|H. J. Park, C. S. Choi, R. J. Choi, J. H. Hong, Y. B. Hahn 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회
7	GaN-based 발광소자에서 식각 속도에 기인한 PECVD 산화막 증착 조건에 관한 연구\|Effect of Deposition Condition of PECVD SiO2 on Etch Rate for GaN-based LED 최창선,김태희,홍주형,박형조,한윤봉\|C. S. Choi,T. H. Kim,J. H. Hong,H. J. Park,Y. B. Hahn 한국화학공학회 2001년 가을 학술대회
6	Cl2/Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 GaN 박막의 식각\|Inductively Coupled Plasma Etching of GaN Films with Cl2/Ar Discharges 한윤봉\|Bum-Chul Cho, Yeon-Ho Im, Jin-Soo Park, Yoon Bong Hahn 한국화학공학회 2000년 봄 학술대회