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유기금속 화학증착을 위한 Cu(I) 전구체의 평가|Evaluation of Cu(I) Precursors for Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
이시우, 강상우, 한상호|Shi-Woo Rhee, Sang-Woo Kang, Sang-Ho Han
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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유기금속 화학증착을 위한 (Ba, Sr)TiO3 전구체의 평가|Evaluation of (Ba, Sr)TiO3 Precursors for Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
이시우, 이정현, 김주영|Shi-Woo Rhee, Jung-Hyun Lee, Joo-Young Kim
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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single liquid solution sources를 이용하여 MOCVD법으로 YBa2Cu3Ox 박막제조|Preparation of YBa2Cu3Ox films by MOCVD using single liquid solution sources
김보련, 이희균, 홍계원, 신형식|Bo-Ryoun Kim, Hee-Gyoun Lee, Gye-Won Hong, Hyung-Shik Shin
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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혼합 단일 유기 금속 화합물을 이용한 SrTiO3 박막의 유기 금속 화합물 증착공정에 관한 연구|Metal Organic Chemical Vapor Deposition of strontium titanate (SrTiO3) thin films using the mixed single metal complex
류현규, 허정식, 조성일, 문상흡|Hyun-Kyu Ryu, Jung Shik Heo, Sung il Cho, Sang Heup Moon
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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구리 박막의 저온 유기금속 화학증착|Low Temperature Chemical Vapor Deposition of Copper Thin Films
강상우, 이시우|Sang-Woo Kang, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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유기금속 화학증착법을 이용한 BST 박막의 제조|Chemical Vapor Deposition of Barium Strontium Titanium Thin Films using New Organometallic Precursor
이정현, 박만영, 심재용, 이시우|Jung-Hyun Lee, Man-Young Park, Jae-Young Shim, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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유기금속 화학증착법으로 제조된 알루미늄 박막의 증착특성|Properties of Chemically Vapor Deposited Aluminum Prepared From Dimethylethylamine alane
김도형, 임경택, 김병엽, 박진원|Do-Heyoung Kim, Gyeong Taek Lim, Byung-Yup Kim, Jin. W. Park
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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화학증착에 의한 복합 알루미나 지지체 내에서의 실리카막 제조 과정 연구|Formation of SiO2 membranes in the pores of composite alumina supports using a CVD technique
이희준, 남석우, 하흥용, 홍성안, 엄희문|H.J.Lee, S.W.Nam, H.Y.Ha, S.A.Hong, H.M.Eum
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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Hexafluoroacetylacetonate Copper(I) Allyltrimethylsilane을 이용한 초고집적 회로용 구리 박막의 유기금속 화학증착|Chemical Vapor Deposition of Copper from Hexafluoroacetylacetonate Copper(I) Allyltrimethylsilane
손종훈, 박만영, 이시우|Jong-Hoon Son, Man-Young Park, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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액적화학증착법을 이용한 BST 박막의 제조 및 전기적 특성평가|Preparation and Electrical Properties of BST Thin Films Deposited by Liquid Source Misted Chemical Vapor Deposition (LSMCVD)
정현진, 최재형, 이정용, 우성일|H. J. Chung, J. H. Choi, J. Y. Lee, S. I. Woo
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
