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CoTb과 CoZrNb 자성 박막의 고밀도 반응성 이온 식각
신 별, 박익현, 정지원
한국화학공학회 2004년 봄 학술대회 |
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유도결합 플라즈마(ICP)를 이용한 Er 첨가된 광도파막 식각 특성 연구|A study on the etching characteristics of Er doped optical waveguide films using Inductively Coupled Plasma Etching
송명곤, Jiehe Sui, 신동욱
한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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C2F6 및 NF3 유도결합플라즈마를 이용한 SiO2 : Ge 식각에관한 연구|Inductively coupled plasma Reactive ion etching of Ge doped silica glass using C2F6 and NF3
이 석 룡, 문 종 하, 김 원 효, 이 병 택
한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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NF3/Ar ICP를 이용한 SiO2/PR의 선택적 식각|Selective Dry Etching of SiO2 over Photo-resist using NF3/Ar Inductively Coupled Plasma
박형조, 한윤봉|Hyung Jo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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Cl2/Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 ZnO박막의 식각 특성|Etch Characteristics of ZnO films in Cl2 based
박진수, 임연호, 최창선, 김태희, 한윤봉|J. S. Park, Y. H. Im, C. S. Choi, T. H. Kim and Y.B. Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Cl2/Ar 유도 결합 플라즈마를 이용한 SiC박막 식각특성|Etching of SiC Thin Films in Cl2/Ar Inductively Coupled Plasmas
최창선, 임연호, 박진수, 김태희, 한윤봉|C. S. Choi, Y. H. Im, J. S. Park, T. H. Kim, Y. B. Hahn
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Cl2/Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 GaN 박막의 식각|Inductively Coupled Plasma Etching of GaN Films with Cl2/Ar Discharges
한윤봉|Bum-Chul Cho, Yeon-Ho Im, Jin-Soo Park, Yoon Bong Hahn
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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비휘발성 반도체 메모리 응용을 위한 유도결합 플라즈마에서 Pt/PZT/Pt 박막 커패시터의 건식 식각|Dry Etching of Pt/PZT/Pt Thin Film Capacitors in an Inductively Coupled Plasma (ICP) for Nonvolatile Memory
정지원, 김창정|Chee Won Chung, Chang Jung Kim
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
