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번호	제목
34	S-termination된 Ge(100)표면에 증착된 ALD HfO₂ 특성 임경택, 이영환, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
33	Ge표면상의 SAM passivation이 high-k deposition에 미치는 영향 임경택, 박기병, 윤미현, 임상우 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
32	Electrical characterization of interface and bulk traps in Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistors with hafnium based dielectric Tea Wan Kim, Rino Choi, Tae Young Jang 한국재료학회 2009년 봄 학술대회
31	Oxidation Behavior of Hf-based Ultra High Temperature Ceramics Fabricated by Reactive Hot Pressing Seung Jun, Lee, Do-Kyung, Kim 한국재료학회 2009년 봄 학술대회
30	Properties of lanthanum oxide deposited by electron cyclotron resonance atomic layer deposition Byung-woo Kang, Woong-sun Kim, Dae-yong Moon, Jong-wan Park 한국재료학회 2008년 가을 학술대회
29	The Effect of HfO₂ and Al₂O₃ on Yittira Tetragonal Zirconia Polycrystal Block Sang-Yong Ji, Zin-Kook Kim, Won-kyoung Ye, Hong-Chae Park, Seog-Young Yoon 한국재료학회 2008년 가을 학술대회
28	Resistance Switching Behaviors of Hafnium Oxide for Non-volatile ReRAM Device Applications 이승협, 용기중 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회
27	고유전 HfO₂ 게이트 절연막을 이용한 실리콘 나노와이어 FET 소자 문경주, 최지혁, 맹완주, 김형준, 명재민 한국재료학회 2008년 봄 학술대회
26	Nonvolatile charge trap memory devices using ordered arrays of cobalt nanocrystals from diblock copolymer micelles 이장식, 이재갑, 손병혁 한국고분자학회 2007년 봄 학술대회
25	The preferred (200) orientation tetragonal phase of HfO₂-Al₂O₃ thin films by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition 문형석, 주대권, 박판귀, 강상원 한국재료학회 2007년 가을 학술대회