| 번호 | 제목 |
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게이트를 상정한 코발트니켈 복합 실리사이드의 물성과 미세구조|Property and Microstructure Evolution of the Cobalt Nickel Composite Silicides for Gate Application 김상엽, 송오성, 정영순 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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고유전물질의 게이트 전극 활용을 위한 TaN, TaSiN의 일함수 및 열안정성|Workfunction and thermal stability of TaN, TaSiN for gate electrodes of high-k dielectrics 김광수, 김영배, 최덕균 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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연마제를 포함하지 않는 알칼리 용액에서 연성고분자패드를 이용한 폴리실리콘의 기계적 화학적 연마에 관한 연구|The abrasive-free CMP process of poly-silicon film using alkaline solution and soft polymer pad 박경순,오윤진,유재옥,정태우,김일욱,백종성,정찬화|Gyung-Soon Park,Youn-Jin Oh,Jae-Ok Yoo,Tae Woo Jung,Il-Wook Kim,Jong Sung Paik,Chan-Hwa Chung 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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레이저에너지에 따른 폴리실리콘 박막의 재결정화 특성 분석|Characterization of laser annealed poly-silicon films 이 청, 이시우|Chung Yi, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
