| 번호 | 제목 |
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| 28 |
Cl2/Ar 가스를 이용한 Ni 박막의 건식 식각 조한나, 리유에롱, 민수련, 정지원 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 27 |
Environment-Friendly Plasma Etching of High Aspect Ratio Deep Si 이형무, 박창한, 김창구 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 26 |
Effects of the ion mass and the ion incident angle on etch rates in atomic scale etching 박창한, 이형무, 윤형진, 김태호, 신치범, 김창구 한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
| 25 |
Cl2/Ar 가스를 이용한 ZnO 박막의 유도 결합 플라즈마 반응성 이온 식각 민수련, 이장우, 조한나, 정지원 한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
| 24 |
Surface morphology on a matrix for barrier-ribs in PDP by etching 성우경, 전재삼, 정유진, 김형순 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
| 23 |
A comparative study on deep Si etching using PFC- and UFC-containing Plasmas 이형무, 박창한, 김창구 한국공업화학회 2006년 가을 학술대회 |
| 22 |
C2F6 가스를 이용한 TiO2 박막의 건식 식각 특성 조한나, 민수련, 리 유에롱, 정지원 한국공업화학회 2006년 가을 학술대회 |
| 21 |
HBr/Ar 플라즈마를 이용한 ZnO 박막에 대한 식각 특성 민수련, 정지원, 이장우, 조한나 한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
| 20 |
고밀도 유도결합 플라즈마를 이용한 IrRu 박막의 식각 특성 이장우, 박익현, 정지원 한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
| 19 |
Etch characteristics of GeSbTe thin films by inductively coupled plasma reactive ion etching 박익현, 이장우, 정지원 한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
