| 번호 | 제목 |
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Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition of SiO2 Thin Film 송소영, 박동화, 박영배 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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Remote plasma를 이용한 TiO2 박막 증착 및 특성분석|The characteristics of TiO2 thin film deposited by remote plasma 안경호,송소영,박동화|Kyoung-ho Ahn,So-young Song,Dong-wha Park 한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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저온 원거리 플라즈마를 이용한 Si 기판의 유기오염물 제거|The Removal of Organic contaminants Using Low Temperature Remote Plasma on Si substrage 소현, 이기형, 서형탁, 전형탁, 김영채|Hyun Soh, Ki Hyung Lee, Hyungtack Seo, Hyeongtag Heon, Young Chai Kim 한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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He/O2 플라즈마 전처리를 통한 산화막 계면 특성 개선 효과|The improvement effect of He/O2 plasma pretreatment for SiO2/Si interface property 김효욱, 이청, 이시우|Hyo-Uk Kim, Chung Yi, Shi-Woo Rhee 한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적특성|Electrical Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Method Using ECR Plasma 전법주, 허정수, 오인환*, 임태훈*, 윤용수, 정일현|Bup-Ju Jeon, Jung-Soo Heo, In-Hwan Oh*, TaeHoon Lim*, Yong-Soo Youn, Il-Hyun 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
