| 번호 | 제목 |
|---|---|
| 7 |
Ultra high etch selectivity and variation of line edge roughness during etching of silicon oxynitride with patterned extreme ultra-violet resist resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas 권봉수, 이정훈, 이내응 한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
| 6 |
축전 결합형 O2 플라즈마를 이용한 아크릴과 폴리카보네이트의 식각 공정 비교 (Comparison of Capacitively Coupled O2 Plasma Etching of PMMA and Polycabonate at Different Process Regime) 박주홍, 이성현, 노호섭, 최경훈, 조관식, 이제원 한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
| 5 |
ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교 권봉수, 이학주, 김선일, 이내응, 이성권 한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
| 4 |
Effect of plasma treatment to surface of the titanium oxide deposited by plasma enhanced atomic layer deposition 김웅선, 고명균, 김태섭, 박종완 한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
| 3 |
노즐 형태의 HCRT MOCVD 반응기에서 유체 흐름이 막 표면 조도 미치는 영향 김경수, 정일현 한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
| 2 |
Curl Depending on Bending Moment and Drying Shrinkage 백기현, 남원석, 이성규 한국공업화학회 2004년 가을 학술대회 |
| 1 |
Numerical Analysis of Capacitively Coupled Plasma Driven by Dual RF Power Sources 김헌창, 황일선 한국공업화학회 2004년 가을 학술대회 |
