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번호	제목
22	Co₂(CO)₈(Dicobalt Octacarbonyl) 전구체를 이용한 MOCVD Co 박막의 균일한 증착 특성 및 높은 순도에 관한 연구\|Highly conformal deposition of pure Co films by MOCVD using Co₂(CO)₈ as a precursor 이정길, 이재갑 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
21	Remote Plasma ALD 법을 사용한 Cobalt 및 Cobalt Silicide 막의 특성에 관한 연구\|Study on characteristics of Cobalt and Cobalt-silicide film using metalorganic precursor by Remote Plasma ALD method 김근준, 전형탁, 이근우, 한세진, 정우호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
20	Co/Ni 복합실리사이드의 FIB를 이용한 나노배선 구조의 형상 분석\|Characterization of Nano Interconnect Structure in Co/Ni Composite Silicide using on FIB 김상엽, 송오성 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
19	아몰퍼스실리콘의 결정화에 따른 복합티타늄실리사이드의 물성변화\|Property of Composite Titanium Silicide on Amorphous and Crystalline Silicon Sunstrates 김상엽 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
18	Ti 및 Si 분말의 전기방전소결에 의한 Titanium Silicide의 합성 연구\|Synthesis of Titanium-Silicide by Electro-Discharge-Sintering of Ti and Si powder 천연욱, 이원희, 오낙현, 김영훈 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
17	Interfacial properties of ultra thin Hf_xSi_1-xO₂ films grown by ALCVD using Hf(N(C₂H₅)₂)₄ and Si(OC₄H₉)₄ for CMOS application 김재현, 용기중 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
16	Diameter Control of Silicon Nanowires by Au thin film 김근영, 이승현, 남기석 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
15	Solid Phase Epitaxy 방법으로 성장시킨 Mn₄Si₇ , β-FeSi₂ 박막의 전, 자기적 특성\|Magnetic and Electrical Properties of Mn₄Si₇, β-FeSi₂ Thin Films by Solid Phase Epitaxy 유상수, 서상원, 임영언, 김도진, 김효진, 김창수, 류현, 오상준 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
14	게이트를 상정한 코발트니켈 복합 실리사이드의 물성과 미세구조\|Property and Microstructure Evolution of the Cobalt Nickel Composite Silicides for Gate Application 김상엽, 송오성, 정영순 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
13	PECVD법으로 증착된 silicon oxynitride의 물성 분석\|Physical analysis of silicon oxynitride deposited by PECVD 조유정, 한길진, 김영철 한국재료학회 2005년 봄 학술대회