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Deep Si Etching using SF6/C4F8 and SF6/C4F6 Plasmas 권혁규, 박병훈, 우상호, 김창구 한국화학공학회 2008년 봄 학술대회 |
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Si Nano needle 제작을 위한 유도결합 플라즈마 etching 공정개발 강형범, 조시형, 서정호, 조민수, 임현우, 박진구 한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
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Optimization of Deep Si Etching using C4F8/SF6 and C4F6/SF6 Plasmas 권혁규, 박병훈, 김창구 한국공업화학회 2008년 봄 학술대회 |
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VHF ICP 물플라즈마를 이용한 수소생성에서 공정변수의 영향 권성구, 김대운, 주정훈, 추원일 한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
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Compariosn of etch characteristics in deep Si etching using PFC- and UFC-containing plasmas 이형무, 김창구 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
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Characteristics of Polymer Films deposited in PFC- and UFC-containing Plasmas during the Bosch Process 권혁규, 이형무, 김창구 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
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C2F6/Ar 가스를 이용한 TiO2 박막의 유도결합 플라즈마 반응성 이온 식각 조한나, 민수련, 리유에롱, 정지원 한국공업화학회 2007년 가을 학술대회 |
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HBr/Cl2/Ar 가스를 이용한 나노미터 크기의 Magnetic Tunnel Junction의 식각 특성 민수련, 조한나, 노수진, 리유에롱, 정지원 한국공업화학회 2007년 가을 학술대회 |
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Dry Etching of IZO Thin Films Using a C2F6/Ar Plasma 조한나, 민수련, 이유에롱, 정지원 한국공업화학회 2007년 봄 학술대회 |
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HBr/Ar과 Cl2/Ar 플라즈마를 이용한 나노미터 크기로 패턴된 Magnetic Tunnel Junction의 건식식각 민수련, 조한나, 리유에롱, 최승필, 정지원 한국공업화학회 2007년 봄 학술대회 |