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Preparation of Sb thin film by Remote Plasma Assisted atomic layer deposition using Tri-isopropyl-antimony
정 훈, 김연홍, 로자나, 이준기, 김도형
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 14 |
Remote Plasma ALD법을 이용한 코발트 금속유도 결정화법에 관한 연구
홍진원, 김명식, 이근우, 배규식
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Deposition of SiO2 Layer in a 300mm Rapid Thermal Process Equipment using Remote Oxygen Plasma
이혜원, 주상래, 서승택, 이광순
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
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Study on characteristics of cobalt film deposited by Remote Plasma ALD method
김근준, 이근우, 한세진, 정우호, 배규열, 전형탁
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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Three Dimensional Simulation of the Process Gas Flow Pattern in a Plasma Enhanced Rapid Thermal Processor for Process Performance Analysis
주상래, 이혜원, 서승택, 이광순
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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HfO2/SiOxNy/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO2/SiOxNy/Si Gate Dielectric Structure
최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Remote Plasma ALD 법을 사용한 Cobalt 및 Cobalt Silicide 막의 특성에 관한 연구|Study on characteristics of Cobalt and Cobalt-silicide film using metalorganic precursor by Remote Plasma ALD method
김근준, 전형탁, 이근우, 한세진, 정우호
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구|The Characteristics of HfO2 Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods.
김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Preparation of Cu thin films By Remote Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition using Copper(Ⅱ) dimethylamino-2-propoxide
윤동준, 김도형
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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원거리 플라즈마 ALD(Atomic Layer Deposition)법으로 증착한 ZrN 확산방지막의 특성에 관한 연구|Characteristics of ZrN deffusion barrier deposited by remote plasma enhanced atomic layer deposition method
황윤철, 조승찬, 김인배, 김양도, 김주연, 전형탁
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
