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A Study on Stripping High-Dose Implanted Photo Resist
오기준
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
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PR-free patterning of nanoporous low dielectric films by using photo acid generator
임진형, 임선기
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
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Polymer microstructure array using gray-scale photolithography
정범승, 김도현
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
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Photo-resist Etching in Si(100) Wafer Cleaning through Large Area He/O2 and Ar/O2 Plasma Source at Atmospheric Pressure
정미희, 최호석
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Protein patterning with pressure assisted capillary force lithography
유충한, 장선기, 채희엽
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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A study on the supercritical carbon dioxide micro/macroemulsion and its applications
박지영, 이윤우, 유기풍, 임종성
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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The application of atmospheric pressure plasma on the surface cleaning
정미희, 권오준, 양인영, 최호석
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회 |
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UV 차단 금속막(hybrid mold mask)을 이용한 잔류층이 없는 UV-nanoimprint patterning에 관한 연구|UV-nanoimprint patterning without residual layers using UV-blocking metal layer
신수범, 안진호, 문강훈, 이 헌, 곽신웅, 차한선
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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Process Development of Photoresist Removal from Commercial Silicon Wafers Using Supercritical Carbon Dioxide
유기풍, 한갑수, 김선영
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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SiO2 hard mask를 이용한 자성 박막의 건식 식각
송영수, 신 별, 정지원
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
