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나노임프린트 공정을 위한 표면화학공정
최대근, 정준호, 이응숙
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
| 10 |
Control of PS-b-PMMA Block Copolymer Thin Films Orientation using Surfactants
손정곤, Xavier Bulliard, 강희만, Paul Nealey, 차국헌
한국화학공학회 2007년 봄 학술대회 |
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Synthesis and evaluation of new photo acid generator(PAG) for EUV Lithography
김연주, 강율, 김학원
한국공업화학회 2007년 가을 학술대회 |
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Nano Transfer Printing 를 이용한 6inch Si wafer에서의 금속 패턴 형성 연구
김종우, 이헌
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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POSS-containing Chemically Amplified Photoresists
최재학, 정찬희, 라현실, 임윤묵, 전준표, 강필현, 노영창, 홍성권
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
| 6 |
High Performance Resists for Sub-100 nm EUV Lithographic Patterning
최재학, 노영창, 홍성권
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
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실리콘 함유 하이브리드 물질의 차세대용 포토레지스트로의 응용
곽영제
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회 |
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Synthesis and Characterizations of Poly(oxyethylene) Derivatives and Polysiloxane Derivatives for Extreme-UV Lithography
류현수, 이종찬
한국고분자학회 2005년 봄 학술대회 |
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복제한 PDMS stamp를 이용한 NIL pattern의 특성 연구|PDMS stamp duplication @ NIL pattern morphology research
양기연, 홍성훈, 이헌
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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극자외선 노광 공정용 마스크 제작 공정의 최적화 연구|Optimization of mask fabrication process for EUV lithography
김우삼, 김충용, 김태근, 이승윤, 안진호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
