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산소 및 수분에 의한 유기박막트랜지스터의 성능저하 메카니즘 분석 및 ALD를 이용한 AlOx 보호막의 passivation 효과
전하영, 신권우, 양상윤, 박찬언
한국고분자학회 2006년 봄 학술대회 |
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Low power EWOD(electrowetting on dielectric) chip for lab-on-a-chip system application
홍석환, 권성구, 노태문, 김도현
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
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ALD로 성장시킨 Ta2O5 박막의 열처리에 따른 특성변화(Effect of post-annealing on properties of Ta2O5 films grown by ALD)
이재웅, 함문호, 김형준, 명재민
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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MOMBE로 성장한 고유전 HfO2 박막의 화학적, 전기적 특성|Properties of high-k HfO2 films grown by MOMBE
문태형, 최지혁, 명재민
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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PEALD 방법으로 증착된 La2O3 게이트 산화물 박막의 전기적 특성|Electrical properties of lanthanum oxide films deposited by Plasma Enhenced Atomic Layer Deposition
이은주, 김범용, 고명균, 박종완
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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Solid phase reaction을 통해 제조한 HfSiON 의 특성|Characterization of HfSiON as gate dielectrics fabricated by solid phase reaction
고한경, 이태호, 김철성, 안진호
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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원자층 증착 방법에 의한 실리콘 질화막 특성에 관한 연구|The Characteristics of Silicon Nitride Thin Film by Atomic Layer Deposition
천민호, 한창희, 김운중, 이원준, 이연승, 나사균
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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원거리 플라즈마 ALD(Atomic Layer Deposition)법으로 증착한 ZrN 확산방지막의 특성에 관한 연구|Characteristics of ZrN deffusion barrier deposited by remote plasma enhanced atomic layer deposition method
황윤철, 조승찬, 김인배, 김양도, 김주연, 전형탁
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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액상전극을 이용한 분자전자소자용 나노스케일유기초박막의 전하이동특성 평가|Study on Charge Transport In Nanoscale Organic Monolayers for Molecular Electronics Using Liqyid Phase Electrodes
소병수, 유일환, 황진하
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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후속 열처리가 ALD로 성막된 Al2O3 박막의 유전특성에 미치는 영향|Effect of Post-Treatments on Electrical/Dielectric Properties of Al2O3 Thin Films Deposited by Atomic Layer Deposition
소병수, 김성문, 황진하, 김영환, 조원태, 안기석
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
