화학공학소재연구정보센터
번호 제목
252 Study on interaction between ceria and various silicon-based wafers for brand-new semiconductor cleaning process
명경규, 변진욱, 임태호, 김재정
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회
251 Plasma etching of SiO2 using hexafluoroisopropanol
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회
250 Charge Carrier Transport at Hetero-interface of 2D Materials
이관형
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
249 Inductively Coupled Plasma Assissted Sputtering 방식으로 증착된 텅스텐 박막의 특성에 관한 연구
이수정, 김태형, 송창훈, 변지영, 김주은, 염근영
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
248 Very High Frequency Plasma - Enhanced 원자층 증착법을 통한 순수 코발트 박막 특성 연구
송창훈, 염원균, 이수정, 탁현우, 변지영, 염근영
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
247 고주파 (162 MHz) 분할전극 플라즈마 소스를 이용한 Silicon nitride (SiNx) 박막의 PEALD 공정에 관한 연구
변지영, 지유진, 김기현, 김기석, 염근영
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
246 2DEG를 이용한 산화물 전자빔 나노 패터닝 제어
이광엽, 문선영, 김진연, 백승협, 김도향, 장호원, 장혜정
한국재료학회 2018년 봄 학술대회
245 고순도 TiCl4 제조를 위한 공정부산물 제거 연구
이지은, 임병용, 강유빈, 윤진호, 이찬기
한국재료학회 2018년 봄 학술대회
244 띠내 전이 기반의 메탈칼코겐 콜로이드 양자점을 활용한 반도체 트랜지스터
김현진, 최윤창, 정광섭, 김재균
한국재료학회 2018년 봄 학술대회
243 Plasma etching of SiO2 using low-GWP etchants
박진수, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2018년 봄 학술대회