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He/O2 플라즈마 전처리를 통한 산화막 계면 특성 개선 효과|The improvement effect of He/O2 plasma pretreatment for SiO2/Si interface property
김효욱, 이청, 이시우|Hyo-Uk Kim, Chung Yi, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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Al CMP과정에서 보호막 역할을 하는 알루미늄산화막에 대한 연구|Investigation of Aluminium Oxide Functioning as a Passivating Layer during Al CMP
최재광, 탁용석|Jaekwang Choi, Yongsug Tak
한국화학공학회 2000년 봄 학술대회 |
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TEOS/O2 PECVD에 의한 산화막과 SiO2/Si 계면특성|Properties of bulk silicon dioxide and SiO2/Si interface formed by TEOS-oxygen PECVD
김효욱, 이시우|Hyo-Uk Kim, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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Sr 산화막 제조용 Sr(DPM)2 의 열분해 특성|Thermal Decomposition Mechanism of Sr(DPM)2 for Fabrication of Sr-Oxide Films
문상흡|Sang Heup Moon
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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III-V족 화합물반도체의 산화막 형성 기구에 관한 연구|The Oxidation Mechanism of III-V Compound Semiconductor Films
정찬화, W. J. Mitchell, S. I. Yi, Evelyn L. Hu, W. Henry Weinberg|Chan-Hwa Chung, W. J. Mitchell, S. I. Yi, Evelyn L. Hu, W. Henry Weinberg
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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화학기상증착반응기에서 금속 갈륨(Ga)과 암모니아(NH3)의 직접반응에 의한 thick GaN 성장과 특성연구|Growth and Characterization of thick GaN film by the direct reaction of metal Ga and NH3 in CVD reactor
양승현, 안상현, 남기석|Seung Hyun Yang, Sang Hyun Ahn, Kee Suk Nahm
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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ZnO/n-Si 저가 박막태양전지의 특성연구|A Study on Characteristics of ZnO/n-Si Low Cost Solar Cells
백두고, 조성민|Doo-Go. Baik, Sung-Min. Cho
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
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리튬이온전지 부극용 MCMB(6-28)전극의 전처리와 전기화학적 특성연구|Pretreatment and Electrochemical Properties of MCMB(6-28) for Lithium Battery
정운호, 이승익, 윤우영, 김건, 전해수|U.H.Chung, S.I.Lee, W.Y.Yoon, K.Kim, H.S.Chun
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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자외광 여기 NF3/H2 가스를 사용한 웨이퍼 세정 공정에서 자연 산화막 제거의 반응 기구|Reaction mechanism of the removal of native oxide in wafer cleaning process employing UV excited NF3/H2
권성구, 백종태, 김도현|Sung-Ku Kwon, Jong-Tae Baek, Do-Hyun Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |
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가스상 세정공정에서 자연 산화막 제거에 대한 UV 조사의 영향|Effect of UV exposure on native oxide removal in dry cleaning process
권성구, 김도현|Sung Ku Kwon, Do Hyun Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
