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High performance thin film transistors with N doped ZnO active layer prepared by atomic layer deposition
임성준, 김형준
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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전구체 노출시간을 조절하는 원자층 증착기술(ALD)을 이용한 ZrO2 나노튜브 성장
성낙진, 윤순길, 신웅철, 류상욱
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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Characteristics of SiO2 /Si3N4/SiO2 multilayer Grown by Atomic Layer Deposition for Flash memory applications
박광철, 정광수, 윤원덕, 박종욱, 나사균, 이원준
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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Al Atom Migration in LaAlO3 Thin Film during Thermal Treatment
엄다일, 황철성, 김형준
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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Characteristics of ZnO thin film Deposited by Atomic Layer Deposition Method
송정빈, 허재성, 이동건, 장삼석, 이병훈, 변동진, 손창식, 최인훈
한국재료학회 2006년 가을 학술대회 |
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Characteristics of ZnO thin film Deposited by Atomic Layer Deposition Method
Jae-Sung Hur, Chang-Sik Son, Jeong-Seop Lee, Byoung-Hoon Lee, Jung-Bin Song, Dong Gun Lee, Sam Seok Jang, Dongjin Byun, Jong-Hyeob Baek, In-Hoon Choi
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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Preparation of photocatalytic TiO2 thin films by atomic layer deposition using TDMAT and H2O2
로자나, 김도형
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Electrical properties of MIM capacitor with La2O3 dielectrics deposited by ALD
조상진, 하정숙, 김수영, 박원태, 강동균, 김병호
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions
김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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ZnO 성장을 위한 Atomic layer deposition법에서 공정온도가 박막의 구조적 광학적 특성에 미치는 영향|Effects on substrate temperature on the microstructure and photoluminescence properties of ZnO thin films by atomic layer deposition
임종민, 조용준, 이종무
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
