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번호	제목
25	The effects of Al₂O₃ passivation with HfO₂ as a buffer layer on a-IGZO TFTs Heewang Yang, Hagyoung Choi, Joohyun Park, Seokyoon Shin, Giyul Ham, Sanghun Lee, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2012년 가을 학술대회
24	Improvement in the bias stability of IGZO thin film transistors using Al2O3 buffer layer growth on Si3N4 dielectric layer 박주현, 방석환, 이승준, 고영빈, 최학영, 신석윤, 김지훈, 함기열, 이상헌, 전형탁 한국재료학회 2011년 가을 학술대회
23	The study on H2 plasma treatment effect in IGZO thin film transistor 김지훈, 방석환, 이승준, 박주현, 고영빈, 최학영, 신석윤, 함기열, 이상헌, 전형탁 한국재료학회 2011년 가을 학술대회
22	The effects of RF power on remote plasma atomic layer deposited Al₂O₃ passivation layer to improve the electrical stability of IGZO TFTs Youngbin Ko, Seokhwan Bang, Seungjun Lee, Joohyun Park, Hagyoung Choi, Jaehun Ryu, Kiyeol Ham, Seokyoon Shin, Jihoon Kim, Hyeongtag Jeon 한국재료학회 2011년 봄 학술대회
21	Atmospheric-pressure Dielectric Barrier Discharge Plasmas for Surface Treatment 강우석, 김현수, 홍상희 한국공업화학회 2011년 가을 학술대회
20	Adhesion properties of ruthenium thin films deposited by remote plasma atomic layer deposition 박태용, 최동진, 최학영, 전형탁 한국재료학회 2010년 가을 학술대회
19	Deposition of TiO₂ by ECR-ALD for organic substrate devices 강병우, 김웅선, 문대용, 박종완 한국재료학회 2009년 봄 학술대회
18	Cell Adhesion Properties of Plasma Polymerized Allylamine by Remote Plasma 김동주, 김민형, 임정혁, 이진호, 김성룡 한국고분자학회 2007년 봄 학술대회
17	Study of Silicon Oxidation in a 12-Inch Remote Plasma-Enhanced Rapid Thermal Processor 이혜원, 이광순 한국화학공학회 2007년 봄 학술대회
16	MOCVD법과 RPALD법을 이용한 금속유도결정화법에 관한 연구 김명식, 홍진원, 배규식 한국재료학회 2007년 봄 학술대회