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펄스 플라즈마 공정에서의 입자 코팅의 이론적 분석
김동주, 김교선
한국화학공학회 2005년 봄 학술대회 |
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SiH₄플라즈마 반응기에서의 미립자 성장의 실헙적 분석|Experimental Analysis on Particle Growth in SiH₄Plasma Reactor
홍성택,김동주,김교선|Sung-Taik Hong,Dong-Joo Kim,Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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TEOS/O2 플라즈마 반응기에서 실리카 미립자 성장분석|Analysis on Silica Particle Growth in TEOS/O2 Plasma Reactor
홍성택, 김동주, 김교선|Sung-Taik Hong, Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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반도체 제조 공정 중의 미립자 성장 모델 연구|Analysis on Particle Growth Models in Semiconductor Fabrication Process
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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반도체 제조용 실란 PCVD 반응기에서의 입자 오염|The Particle Contamination in Silane PCVD Reactor for Semiconductor Fabrication
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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플라즈마 반응기에서의 입자 전하 분포와 입자 충돌|Particle Charge Distribution and Coagulation in Plasma Reactor
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1998년 봄 학술대회 |
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실란 PCVD 반응기에서 공정 변수 조건에 따른 입자 거동|The Movements of Particles in Silane PCVD Reactor for Various Process Conditions
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
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공정 변수 변화에 따른 실란 PCVD 반응기에서의 입자 특성|The Characteristics of Particles in Silane PCVD Reactor Changing the Process Variables
김동주, 김교선|Dong-Joo Kim, Kyo-Seon Kim
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
