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Effect of Al2O3 encapsulation on MoS2 and MoSe2 thin-film transistors
김성열, 이현아, 최웅
한국재료학회 2016년 가을 학술대회 |
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Characteristics of Si:ZrO2 deposited by ALD using CP-Zr
이건영, 장우출, 김현정, 임희우, 전형탁
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Interface Properties of Atomic-Layer-Deposited Al2O3 Thin Films on Ultraviolet/Ozone-Treated Multilayer MoS2
박선영, 최유라, 김명준, 신현정, 김지영, 최웅
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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Improved Device Properties of Multilayer MoS2 Transistors by Al2O3 Passivation
김성열, 최웅
한국재료학회 2016년 봄 학술대회 |
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The Effect of Surface Energy on Atomic Layer Deposited High-k Dielectric on MoS2 Crystals
최웅, 최유라, 이현아, 박선영
한국재료학회 2015년 가을 학술대회 |
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Atomic Layer Deposition of Al2O3 thin films using a new metallorganic precursor.
장병현, 이현정, 홍태은, 장동학, 여소정, 박정우, 김수현
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Polished & Epitaxial Si Wafer에서 Al2O3 MOS Gate Stack 특성 비교
박유민, 김진서, 서형탁
한국재료학회 2015년 봄 학술대회 |
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Dielectric Properties of TiO2 Thin Films Prepared by Anodic Oxdation of Titanium
이태근, 최민지, 최화영, 류원선
한국화학공학회 2015년 봄 학술대회 |
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A Thienoisoindigo-Naphthalene Polymer with Ultrahigh Mobility That Substantially Exceeds Benchmark Values for Amorphous Silicon Semiconductors
김경식, 강석주, Gitish K. Dutta, 한영규, 신태주, 노용영, 양창덕
한국고분자학회 2014년 가을 학술대회 |
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Characteristics of TiO2 thin film by remote plasma atomic layer deposition using a novel Ti precursor
Chunho Kang, Heeyoung Jeon, Woochool Jang, Hyunjung Kim, Hyoseok Song, Honggi Kim, Hyeongtag Jeon
한국재료학회 2014년 가을 학술대회 |
