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학술대회 목록보기

번호	제목
21	Design and syntheses of novel calixarene-based PAG bound molecular resists for EUV lithography 김현정, 하태환, 김영규 한국공업화학회 2012년 가을 학술대회
20	The Effect of Macromolecular Architecture on the Performance of Photoresists for Advanced Semiconductor Manufacture George G. Barclay 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회
19	Polymeric Materials for Extreme UV Lithography 김재현, 이재우, 오승근, 이정열, 김정식 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회
18	Basics and Trend of Semiconductor Lithography Hye-Keun Oh 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회
17	EUV photomask의 ozonated deionized water (DIO₃) 세정 후Ru capping layer의 표면 변화 연구 서동완, 배진성, 정준의, 임상우 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
16	Preparation of Acid-Cleavable Branched Polymers: Control in Size of Primary Chains, Degree of Branching, and Composition Distribution 손해성, 김동균, 이애리, 이재우, 김정식, 김재현, 이종찬 한국공업화학회 2011년 봄 학술대회
15	EUV Mask의 내구성 향상을 위한 cleaning chemistry별 표면 특성 연구 윤미현, 오지숙, 임상우 한국화학공학회 2010년 가을 학술대회
14	Ultra high etch selectivity and variation of line edge roughness during etching of silicon oxynitride with patterned extreme ultra-violet resist resist in dual-frequency capacitively coupled plasmas 권봉수, 이정훈, 이내응 한국재료학회 2010년 가을 학술대회
13	Coherent Diffraction Imaging for Non-Crystalline Nano-Structures Jaehyun Park, Changyong Song, Yoshiki Kohmura, Tetsuya Ishikawa 한국고분자학회 2009년 가을 학술대회
12	ArF resist와 EUV resist의 식각특성 비교 권봉수, 이학주, 김선일, 이내응, 이성권 한국재료학회 2007년 가을 학술대회