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Si wafer의 wet etching 시 etching속도에 미치는 온도 영향
이현용, 서승국, 노재승, 고성우
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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The evaluation of ceria slurry for blank mask polishing for Photo-lithography process
김혁민, 권태영, 조병준, 박진구
한국재료학회 2011년 봄 학술대회 |
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질화물계 발광다이오드의 광출력 향상을 위한 광결정 패터닝에 관한 연구
변경재, 박형원, 조중연, 이성환, 이 헌
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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수소 플라즈마 전처리 공정을 통한 단결정 실리콘 웨이퍼의 표면 패시베이션 특성 비교
김영도, 강민구, 박성은, 송주용, 탁성주, 권순우, 윤세왕, 김동환
한국재료학회 2010년 봄 학술대회 |
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In-situ 암모니아 플라즈마 후처리를 이용한 표면 passivation 특성 분석
이경동, 강민구, 김영도, 탁성주, 박성은, 김동환
한국재료학회 2010년 봄 학술대회 |
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TAC (Tri Acetyl Cellulose) Film의 위상차 특성에 대한 가소제 및 연신효과에 관한 연구
최경호, 이정희, 안유선, 김재구, 이충호, 박은수, 김성욱, 박인, 전현애, 이상국
한국고분자학회 2009년 봄 학술대회 |
| 8 |
The Formation and Control of the Cross-Slip Dislocaton in the Horizontal Magnetic Czochralski Grown Silicon Crystals
송도원, 김영훈, 김 효
한국화학공학회 2007년 가을 학술대회 |
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CMP 장비/공정 변수 최적화를 위한 LOGIC TOOL 개발
김상용
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
| 6 |
Ru CMP(chemical mechanical planarization) 에서 pH 변화가 Ru의 연마거동에 미치는 영향
조병권, 김인권, 권태영, 강봉균, 박진구, 박형순
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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CMP conditioner의 diamond 크기, 배열, 형상 변화가 pad conditioning 공정에 미치는 영향
강봉균, 강영재, 김규채, 박진구, 이주한, 안정수, 조병권
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
