번호 | 제목 |
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초고 집적회로에서 층간 절연막으로 사용하기 위한 저 유전체 박막물질 증착|Deposition of Low Dielectric Constant Material for Intermetal Dielectric Applications in ULSI Circuits 김동선|Dong S. Kim 한국화학공학회 1999년 봄 학술대회 |
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비휘발성 반도체 메모리 응용을 위한 유도결합 플라즈마에서 Pt/PZT/Pt 박막 커패시터의 건식 식각|Dry Etching of Pt/PZT/Pt Thin Film Capacitors in an Inductively Coupled Plasma (ICP) for Nonvolatile Memory 정지원, 김창정|Chee Won Chung, Chang Jung Kim 한국화학공학회 1997년 봄 학술대회 |
1 |
LPCVD로 성장된 Ta2O5 박막 및 커패시터 특성|Thin film capacitors of Ta2O5 grown by LPCVD 최영석, 조성민|Young-Suk Choi, Sung Min Cho 한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |