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포토마스크 헤이즈 형성 방지를 위한 계면활성제를 이용한 세정 효과
양자현, 임경택, 윤미현, 임상우
한국화학공학회 2009년 봄 학술대회 |
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레이저 유기 충격파를 이용한 나노 Trench 에서의 나노입자제거
김진수, 이승호, 박진구
한국재료학회 2009년 봄 학술대회 |
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Spectroscopic Studies on the Liquid Crystal Alignment Mechanisms for Polarized UV-Exposed Polymers
하기룡
한국고분자학회 2007년 봄 학술대회 |
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반도체 세정 공정평가를 위한 저비용 나노입자 오염장치 개발
손일룡, 김태곤, 유영삼, 박진구
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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오존수를 이용한 실리콘 웨이퍼 연마 후 지용성 왁스 제거 효율 및 습식 세정 공정의 최적화에 관한 연구
이재환, 이승호, 김태곤, 박진구
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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레이저 충격파 세정 동안 오염입자들과 웨이퍼 표면 사이에서 작용 하는 adhesion 과 capiaalry force에 관한 연구
이재환, 강영재, 이상호, 홍의관, 박진구, 이종명
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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반도체용 CVD Precursor의 증기압 측정 방법에관한 연구
이지훈, 윤주영, 문두경, 성대진, 신용현, 정광화
한국공업화학회 2005년 가을 학술대회 |
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세정 성능 평가를 위한 실리콘 웨이퍼 표면에서의 입자 오염 방법|Particle Contamination Method on Si Wafer Surface for Evaluation of Cleaning Efficiency
김규채, 권태영, 이승호, 이상호, 박진구
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process
이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호
한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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가스터빈 압축기 내부식 코팅 특성 평가|Performance evaluation of the corrosion resistant coating for gas turbine compressor
정진성, 김의현
한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
