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nMOS capping layer La2O3의 습식 에칭 kinetics 및 mechanism 연구
오지숙, 배진성, 서동완, 임상우
한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
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Study of High SelectiveSilicon Nitride/Silicon Oxide Etching
배진성, 오지숙, 서동완, 임상우
한국화학공학회 2011년 가을 학술대회 |
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알칼리성 슬러리를 이용한 단결정 및 다결정 실리콘의 화학적 기계적 연마 특성 평가
김혁민, 권태영, 조병준, R. Prasanna Venkatesh, 박진구
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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Improvement of electrical properties by controlling nickel plating temperatures for all solid alumina capacitors
Myung-Sun Jeong, Byeong-Kwon Ju, Young-Jei Oh, Jeon-Kook Lee
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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Non-mechanical compression barrier in Langmuir-Blodgett technique for large area colloidal monolayer formation
Ui Yeon Kim, Dahl-Young Khang
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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Facile fabrication of Si micropillar arrays using solution imprinting and metal-assisted electroless chemical etching of Si
Dahl-Young Khang, Jung-Bae Lee
한국재료학회 2011년 가을 학술대회 |
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Polymer Layer based Surface KineticModel on Silicon Dioxide Etch Process in Inductively Coupled Fluorocarbon Plasmas
장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 권득철, 김진태, 김상곤, 윤정식, 임연호
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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The role of steady-state fluorocarbon film during SiO2 etching in C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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기능기에 따른 구리산화물 제거 특성 연구
고천광, 이원규
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
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nMOS high-k gate stack 형성을 위한 capping layer의 선택적 에칭
오지숙, 배진성, 서동완, 임상우
한국화학공학회 2011년 봄 학술대회 |
