| 번호 | 제목 |
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A Study on Stripping High-Dose Implanted Photo Resist 오기준 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 6 |
Cu BEOL 위한 세정용액의 각 성분이 갖는 CuO/Cu의 선택적 용해도에 대한 특성분석 이진욱, 고천광, 이원규 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 5 |
과산화수소를 대체하여 고농도의 오존수를 사용한 SC1의 오염물 제거 효율 평가 이승호, 박진구, 이상호, 김태곤, 권태영 한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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RCA 반도체 습식 세정 공정 중 오존을 이용한 SC1 세정을 위한 최적화 연구|The Study of Optimized Process Condition using Ozone for SC1 Solution in RCA Wet Cleaning Process 이승호, 이상호, 김규채, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
| 3 |
반도체 습식 세정 공정중 SC1 세정 용액에 킬레이팅 에이전트 첨가에 의한 오염 입자와 금속 오염물 제거 효과|Removal of Particles and Metal Impurities by adding of Chelating Agent onto SC1 Cleaning Solution in Semiconductor Wet Cleaning Process 이승호, 이상호, 권태영, 박진구, 배소익, 김인정, 이건호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
| 2 |
Process Development of Photoresist Removal from Commercial Silicon Wafers Using Supercritical Carbon Dioxide 유기풍, 한갑수, 김선영 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회 |
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반도체 Wet Cleaning Process 조일현 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
