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Self-assembly and pH-Responsive Behavior of Poly(4-hydroxystyrene)–b-Poly(N-vinylamine) Diblock Copolymer Synthesized by RAFT Polymerization 윤준혁, 김태형, 김상율 한국고분자학회 2019년 가을 학술대회 |
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Synthesis of Polystyrene and Poly(4-hydroxystyrene)-containing Bottlebrush Block Copolymers Featuring Structural Coloration 유용군, 서춘희, 채창근, 김명진, 서호빈, 강영종, 이재석 한국고분자학회 2019년 봄 학술대회 |
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Synthesis of Poly(4-hydroxystyrene–b-N-vinylamine) Diblock Copolymer by RAFT Polymerization 윤준혁, 김태형, 김상율 한국고분자학회 2018년 가을 학술대회 |
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pH-Responsive Poly(4-hydroxystyrene)–b-poly(N-vinylamine) Diblock Copolymer Synthesized by RAFT Polymerization 윤준혁, 김태형, 김상율 한국고분자학회 2018년 봄 학술대회 |
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Highly Asymmetric Lamellar Morphologies 김진곤, 곽종헌, 한성현 한국고분자학회 2015년 봄 학술대회 |
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The Effect of Macromolecular Architecture on the Performance of Photoresists for Advanced Semiconductor Manufacture George G. Barclay 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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Phase Behavior of Binary Blends of Block Copolymers having Hydrogen Bonding 한성현, 김진곤 한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
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High Performance Resists for Sub-100 nm EUV Lithographic Patterning 최재학, 노영창, 홍성권 한국공업화학회 2006년 봄 학술대회 |
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Acid-modified Poly(4-hydroxystyrene)을 이용한 산 촉진 열 가교형 Negative Photoresist의 합성 및 노광 특성 평가 조혜진, 김준영, 김태호 한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |
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ATRP를 이용한 Poly(4-hydroxystyrene)과 공중합물의 중합과 Deep-UV용 Positive Resist로의 응용에 대한 연구 윤종원, 김준영, 김태호 한국고분자학회 2003년 가을 학술대회 |