화학공학소재연구정보센터
번호 제목
10 Self-assembly and pH-Responsive Behavior of Poly(4-hydroxystyrene)–b-Poly(N-vinylamine) Diblock Copolymer Synthesized by RAFT Polymerization
윤준혁, 김태형, 김상율
한국고분자학회 2019년 가을 학술대회
9 Synthesis of Polystyrene and Poly(4-hydroxystyrene)-containing Bottlebrush Block Copolymers Featuring Structural Coloration
유용군, 서춘희, 채창근, 김명진, 서호빈, 강영종, 이재석
한국고분자학회 2019년 봄 학술대회
8 Synthesis of Poly(4-hydroxystyrene–b-N-vinylamine) Diblock Copolymer by RAFT Polymerization
윤준혁, 김태형, 김상율
한국고분자학회 2018년 가을 학술대회
7 pH-Responsive Poly(4-hydroxystyrene)–b-poly(N-vinylamine) Diblock Copolymer Synthesized by RAFT Polymerization
윤준혁, 김태형, 김상율
한국고분자학회 2018년 봄 학술대회
6 Highly Asymmetric Lamellar Morphologies
김진곤, 곽종헌, 한성현
한국고분자학회 2015년 봄 학술대회
5 The Effect of Macromolecular Architecture on the Performance of Photoresists for Advanced Semiconductor Manufacture
George G. Barclay
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회
4 Phase Behavior of Binary Blends of Block Copolymers having Hydrogen Bonding
한성현, 김진곤
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회
3 High Performance Resists for Sub-100 nm EUV Lithographic Patterning
최재학, 노영창, 홍성권
한국공업화학회 2006년 봄 학술대회
2 Acid-modified Poly(4-hydroxystyrene)을 이용한 산 촉진 열 가교형 Negative Photoresist의 합성 및 노광 특성 평가
조혜진, 김준영, 김태호
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회
1 ATRP를 이용한 Poly(4-hydroxystyrene)과 공중합물의 중합과 Deep-UV용 Positive Resist로의 응용에 대한 연구
윤종원, 김준영, 김태호
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회