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용액 공정방식을 사용한 ZTO-TFT소자 제작과 gate bias 특성 분석
박현애, 구형석, 권석일, 최병덕
한국재료학회 2010년 가을 학술대회 |
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Improvement in the transfer characteristics of tin oxide (SnO2) thin film transistor using buffered gate insulator
김웅선, 문연건, 김경택, 한동석, 신새영, 박종완
한국재료학회 2010년 봄 학술대회 |
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Enhanced Electrical Performance of Organic Field-Effect Transistors by Solvent Exposure of Semiconductor Layers
남수지, 정대성, 김세현, 권순기, 박찬언
한국고분자학회 2009년 봄 학술대회 |
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Design of 45 nm Silicon-on-insulator (SOI) n-metal―oxide―semiconductor Field-effect Transistor (MOSFET) Floating Body Cell (FBC) for Optimal Memory Characteristics
Jin-Woo Choi, Young-Hwan Ryu, Seong-Je Kim, Tae-Hun Shim, Jea-Gun Park
한국재료학회 2008년 봄 학술대회 |
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ECR플라즈마를 이용한 화학증착법에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적특성|Electrical Characteristics of Silicon Oxide Films Prepared by Chemical Vapor Deposition Method Using ECR Plasma
전법주, 허정수, 오인환*, 임태훈*, 윤용수, 정일현|Bup-Ju Jeon, Jung-Soo Heo, In-Hwan Oh*, TaeHoon Lim*, Yong-Soo Youn, Il-Hyun
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
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실리콘의 Orientetion이 산소 플라즈마에 의해 제조된 실리콘 산화막의 전기적 특성에 미치는 영향|Effect of Silicon Orientation on the Electrical Properties of SiO2 Using Oxygen Plasma
허정수, 전법주, 오인환*, 임태훈*, 정일현|Jung-Soo Heo, Bup-Ju Jeon, In-Hwan Oh*, Tae Hoon Lim*and Il-Hyun Jung
한국화학공학회 1996년 가을 학술대회 |
