| 번호 | 제목 |
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Three Dimensional Simulation of the Process Gas Flow Pattern in a Plasma Enhanced Rapid Thermal Processor for Process Performance Analysis 주상래, 이혜원, 서승택, 이광순 한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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HfO2/SiOxNy/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO2/SiOxNy/Si Gate Dielectric Structure 최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
| 3 |
Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions 김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
| 2 |
Ru/Ti bilayer metal electrode를 이용한 게이트 일함수 조절|Workfunction tunability of Ru-Ti bilayer structure for metal gate electrode 고한경, 이태호, 박인성, 김경래, 이상설, 안진호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회 |
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고유전물질의 게이트 전극 활용을 위한 TaN, TaSiN의 일함수 및 열안정성|Workfunction and thermal stability of TaN, TaSiN for gate electrodes of high-k dielectrics 김광수, 김영배, 최덕균 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
