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번호	제목
8	Puled Plasma를 이용하여60 MHz/2 MHz Dual-Frequency Capacitive coupled plasma에서 SiO₂의 식각특성에 관한 연구 염근영, 전민환, 김회준 한국재료학회 2013년 봄 학술대회
7	Plasma surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas 이세아, 천푸름, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
6	GPU based 3D feature profile simulation for ultra-high deep etch process in inductively coupled fluorocarbon plasmas 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 권득철, 임연호 한국화학공학회 2012년 가을 학술대회
5	3D feature profile simulation based on realistic surface kinetic studies of silicon dioxide etch process in C₄F₆/Ar/O₂ plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 천푸름, 이세아, 김진태, 김상곤, 권득철, 송미영, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2012년 봄 학술대회
4	Polymer Layer based Surface KineticModel on Silicon Dioxide Etch Process in Inductively Coupled Fluorocarbon Plasmas 장원석, 유동훈, 조덕균, 육영근, 권득철, 김진태, 김상곤, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2011년 봄 학술대회
3	SiO₂ Etching Studies in Inductively Coupled C₄F₆ Plasma 채화영, 장원석, 유동훈, 김진태, 윤정식, 임연호 한국화학공학회 2010년 봄 학술대회
2	Characteristics of fluorocarbon films deposited in perfluorocarbon and unsaturated fluorocarbon plasmas 조성운, 지정민, 김창구 한국화학공학회 2009년 봄 학술대회
1	Angular distributions etch products from the bottom substrate in fluorocarbon plasmas 이진관, 이겨레, 민재호, 문상흡 한국화학공학회 2003년 가을 학술대회