| 15 |
Properties of lanthanum oxide deposited by electron cyclotron resonance atomic layer deposition
Byung-woo Kang, Woong-sun Kim, Dae-yong Moon, Jong-wan Park
한국재료학회 2008년 가을 학술대회 |
| 14 |
In-situ diagnosis of tantalum precursors using Fourier transform infrared (FT-IR) spectroscopy
Sukhoon Kim, Moonkyun Song, Shi-Woo Rhee
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
| 13 |
The Electrical Characteristics of TiO2/Al2O3/TiO2 nano-laminated thin film by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
주대권, 전우진, 강상원
한국재료학회 2007년 가을 학술대회 |
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Characteristics of SiO2 /Si3N4/SiO2 multilayer Grown by Atomic Layer Deposition for Flash memory applications
박광철, 정광수, 윤원덕, 박종욱, 나사균, 이원준
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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Biomonitoring a PSA using dendrimer in the interferometric PS(porous silicon)chip
최정민, 안희철, 김병우
한국화학공학회 2006년 가을 학술대회 |
| 10 |
Functionalization of porous silicon surface with ProlinkerTM-A and Dendrimer in the interferometric biochip to sensePSA(Prostate Specific Antigen)
최정민, 안희철, 임성혁, 김병우
한국화학공학회 2006년 봄 학술대회 |
| 9 |
The Growth of the lanthanum oxide thin films for application as a gate oxide by plasma enhanced atomic layer deposition
Jun-Ho Moon, Myoung-Gyun Ko, Eun-Joo Lee, Sang-Kyun Park, Min-Soo Hong, Yoo-Jin Jeon, Jong-Wan Park
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
| 8 |
Three Dimensional Simulation of the Process Gas Flow Pattern in a Plasma Enhanced Rapid Thermal Processor for Process Performance Analysis
주상래, 이혜원, 서승택, 이광순
한국화학공학회 2005년 가을 학술대회 |
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HfO2/SiOxNy/Si 게이트 구조의 열처리에 따른 열적 안정성과 전기적 특성|Thermal Stability and Electrical Characteristics on Annealing of HfO2/SiOxNy/Si Gate Dielectric Structure
최지훈, 김석훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Al 조성 변화에 따라 원자층 증착법으로 성장된 Hf-Al mixed oxide 박막의 특성|Characteristics of Hafnium-aluminum-oxide Thin Films Deposited by Using Atomic Layer Deposition with Various Aluminum Compositions
김석훈, 최지훈, 강현석, 우상현, 홍형석, 전형탁
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
