| 9 |
Effect of F/C ratio in discharge gases on the angular dependence of etch rates of SiO2
조성운, 김창구
한국화학공학회 2014년 봄 학술대회 |
| 8 |
Simultaneous Enhancement of Light Extraction and Device Stability of Organic Light Emitting Diodes from Corrugated and Continuous PEDOT:PSS film
이창연, 강동진, 강현범, 김태수, 박준우, 이재호, 유승협, 김범준
한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
| 7 |
Light outcoupling enhancement of white organic light-emitting devices with random nano pillar structure
이철호, 김장주
한국고분자학회 2011년 봄 학술대회 |
| 6 |
Effect of CH2F2 addition on angular dependence of SiO2 etching in a C4F6/O2/Ar plasma
조성운, 김창구
한국화학공학회 2010년 가을 학술대회 |
| 5 |
Angular dependence of SiO2 etch rates in C4F6/Ar/O2 and C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasmas
조성운, 김창구
한국화학공학회 2010년 봄 학술대회 |
| 4 |
Angular dependence of Si3N4 etch rates and SiO2 to Si3N4 etch selectivity in a C4F6/Ar/O2/CH2F2 plasma
조성운, 이진관, 문상흡, 김창구
한국화학공학회 2009년 가을 학술대회 |
| 3 |
Angular dependences of etch rates of Si and fluorocarbon polymer in SF6, C4F8, and O2 plasmas for advanced Bosch process
민재호, 이겨레, 이진관, 문상흡
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
| 2 |
Investigation of surface rearrangement of oxygen plasma treated polyethylene using XPS and NEXAFS
김광수;박찬언;유창모
한국고분자학회 2003년 봄 학술대회 |
| 1 |
CHF3 플라즈마에서 다공성 저유전율 물질 식각의 각도 의존성|Angular Dependence of Porous Low-k Material Etch Rate in a CHF3 Plasma
황성욱,이겨레,민재호,문상흡|Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Jae-Ho Min,Sang Heup Moon
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
