화학공학소재연구정보센터
번호 제목
13 Ultra thin PbTiO3 films prepared by gas phase reaction sputtering
김지윤, Simon Bühlmann, 김윤석, 박문규, 김용관, 홍승범, 노광수
한국재료학회 2007년 가을 학술대회
12 커패시터를 내장한 인쇄회로기판의 특성에 미치는 전해연마 처리의 영향
진현주, 이승은, 강형동
한국재료학회 2006년 봄 학술대회
11 유기박막트랜지스터 절연재용 폴리이미드/티타늄옥사이드 나노복합화 박막의 제조 및 특성 연구
김진우, 표승문, 안복엽, 석상일, 홍성권, 이미혜
한국고분자학회 2005년 가을 학술대회
10 초박층 MLCC 제조용 BaTiO3 유전체 박막의 균일성 제어|Uniformity control of sol-gel derived BaTiO3 thin film for MLCC(Multi-Layer Ceramic Capacitor) fabrication
이영일, 신효순, 김용석, 김형호, 추호성, 이정우
한국재료학회 2005년 봄 학술대회
9 적층형 다층박막구조로 제조된 강 유전체 박막(PZT)의 특성에 관한 연구
강병선, 이원규
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
8 (Bi,La)Ti3O12 강유전체 물질을 갖는 전계효과형 트랜지스터의 제작과 특성연구|Preparation and Properties of Field Effect Transistor with (Bi,La)Ti3O12 Ferroelectric Materials
서강모, 조중연, 장호정
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
7 Direct liquid injection ? metal organic chemical vapor deposition 공정을 이용한 BLT 강유전체 박막의 증착|The deposition of ferroelectric BLT film using direct liquid injection-metal organic chemical vapor deposition process
강상우,이시우|Sang-Woo Kang,Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
6 VTMS 전구체를 이용한 직접 플라즈마 CVD 저유전체 박막의 제조 및 평가|Low-k SiCOH films by direct plasma CVD with VTMS(vinyltrimethylsilane)
곽상기,이시우|Sang Ki Kwak,Shi Woo Rhee
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회
5 저유전체 SiCFO 박막의 PECVD 제조 및 특성|Properties of Low-k SiCFO Films Prepared by Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
김태희, 한윤봉|Tae-Hee Kim, Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회
4 플라즈마 화학 기상 증착법을 이용한 저유전체 박막의 제조 및 특성|Plasma enhanced chemical vapor deposition and characterization of low-k dielectric thin film
김태희,홍주형,한윤봉|Tae-Hee Kim,Joo-Hyung Hong,Yoon-Bong Hahn
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회