화학공학소재연구정보센터
번호 제목
209 Aspect-ratio enhancement of self-assembled patterns using controlled polymer brush layers
이정혜, 김종민, 정재원, 심동민, 정연식
한국고분자학회 2013년 가을 학술대회
208 Controlled alignment of block copolymers with solvent annealing using top coating layer
김은진, 이광희, 손정곤
한국고분자학회 2013년 가을 학술대회
207 Orientation-Controlled Self-Assembled Nanolithography of Si-Containing Block Copolymers
박창홍, 강은희, 김진백
한국고분자학회 2013년 봄 학술대회
206 Study on hybrid nanoimprint resists containing diazoketo groups
신승민, 우승아, 김진백
한국고분자학회 2013년 봄 학술대회
205 Highly Ordered Freestanding Titanium Oxide Nanotube Arrays Using Si-Containing Block Copolymer Lithography and Atomic Layer Deposition
조경천, 정경옥, 박창홍, 권세훈, 김진백
한국고분자학회 2013년 봄 학술대회
204 Sub-10 nm Patterns by Self-Assembly of Silicon-Containing Block Copolymers and Their Electrical Applications
손정곤
한국고분자학회 2013년 봄 학술대회
203 Multi-GPUs based 3D feature profile simulation for fluorocarbon plasma etch process
조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회
202 3D feature profile simulation of mask effects in high aspect contact hole etch process
천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 임연호
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회
201 Large scale feature profile simulation for plasma etch process of high aspect ratio contact hole
육영근, 유동훈, 장원석, 최광성, 조덕균, 천푸름, 이세아, 임연호
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회
200 Phase Shift Mask의 표면개질에 의한 Critical Dimension 변화억제
추혁성, 임상우
한국화학공학회 2013년 가을 학술대회