209 |
Aspect-ratio enhancement of self-assembled patterns using controlled polymer brush layers 이정혜, 김종민, 정재원, 심동민, 정연식 한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
208 |
Controlled alignment of block copolymers with solvent annealing using top coating layer 김은진, 이광희, 손정곤 한국고분자학회 2013년 가을 학술대회 |
207 |
Orientation-Controlled Self-Assembled Nanolithography of Si-Containing Block Copolymers 박창홍, 강은희, 김진백 한국고분자학회 2013년 봄 학술대회 |
206 |
Study on hybrid nanoimprint resists containing diazoketo groups 신승민, 우승아, 김진백 한국고분자학회 2013년 봄 학술대회 |
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Highly Ordered Freestanding Titanium Oxide Nanotube Arrays Using Si-Containing Block Copolymer Lithography and Atomic Layer Deposition 조경천, 정경옥, 박창홍, 권세훈, 김진백 한국고분자학회 2013년 봄 학술대회 |
204 |
Sub-10 nm Patterns by Self-Assembly of Silicon-Containing Block Copolymers and Their Electrical Applications 손정곤 한국고분자학회 2013년 봄 학술대회 |
203 |
Multi-GPUs based 3D feature profile simulation for fluorocarbon plasma etch process 조덕균, 최광성, 육영근, 이세아, 천푸름, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
202 |
3D feature profile simulation of mask effects in high aspect contact hole etch process 천푸름, 이세아, 육영근, 최광성, 조덕균, 유동훈, 장원석, 임연호 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
201 |
Large scale feature profile simulation for plasma etch process of high aspect ratio contact hole 육영근, 유동훈, 장원석, 최광성, 조덕균, 천푸름, 이세아, 임연호 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |
200 |
Phase Shift Mask의 표면개질에 의한 Critical Dimension 변화억제 추혁성, 임상우 한국화학공학회 2013년 가을 학술대회 |