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반도체 및 디스플레이에서의 전해도금과 무전해도금
김재정, 이창화
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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PECVD Chamber 구조가 SiO2 박막 증착의 균일도에 미치는 영향에 관한 연구|Numerical Studies on Effect of Chamber Geometry on Uniformity of SiO2 Deposited by PECVD
김성재,김헌창,임계규|Seong Jae Kim,Heon Chang Kim,Key Kyu Lim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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Remote plasma를 이용한 TiO2 박막 증착 및 특성분석|The characteristics of TiO2 thin film deposited by remote plasma
안경호,송소영,박동화|Kyoung-ho Ahn,So-young Song,Dong-wha Park
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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FBAR 소자용 Si Membrane 구조제작 및 ZnO 압전 박막 증착|The fabrication of membrane structure for FBAR and the deposition of ZnO piezoelectric thin film
임석진,김종성|Seok-Jin Lim,Jong Sung Kim
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회 |
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원자층 증착 공정에 관련한 Si(100)위에서 알코올의 표면화학연구|surface chemistry of alcohols on Si(100) for ALD process
김재현, 김관수, 용기중|Jaehyun Kim, Kwansoo Kim, Kijung Yong
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
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원자층 나노박막 증착을 위한 표면화학 연구|Surface chemistry study for atomic layer chemical vapor deposition
용기중|Kijung Yong
한국화학공학회 2001년 가을 학술대회 |
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DLI-MOCVD공정을 이용한 SBT 박막 증착 및 전구체 특성평가|Deposition of SBT Thin Films using DLI-MOCVD Process and Evaluation of Precursors
강상우, 양기정, 용기중, 이시우|Sang-Woo Kang, Kee-Jeong Yang, Ki-jung Yong, Shi-Woo Rhee
한국화학공학회 2001년 봄 학술대회 |
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Ru-MOCVD 공정의 CFD해석 및 Iodine 의 효과|CFD Analysis of Ru-MOCVD Process: Effect of Iodine
정두환, 윤도영, 김재정|Doo-Hwan Jeong, Do-Young Yoon, Jae-Jeong Kim
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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Langmuir-Blodgett, Langmuir-Schaefer, 그리고 자기조립 산성막에서 CdS 결정의 성장|Growth of Semiconducting CdS Crystals at Langmuir-Blodgett, Langmuir-Schaefer, and Self-Assembled Acidic Films
이지훤, 이길선, 최정우, 안동준|Ji Hwon Lee, Gil Sun Lee, Jung Woo Choi, Dong June Ahn
한국화학공학회 2000년 가을 학술대회 |
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Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)를 이용한 다이아몬드 박막 증착|Diamond Thin Film Deposition by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)
원종각, 김종성, 홍근조, 권상직|Jongkak Won, Jongsung Kim, Kunjo Hong, Sangjik Kwon
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
