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N2O/N2 플라즈마를 이용한 폴리카보네이트의 건식 식각(Dry Etching of Polycarbonate in N2O/N2 Plasma)
주영우, 이제원, 김재권, 박연현, 강상구, 백인규, 조관식
한국재료학회 2007년 봄 학술대회 |
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The effect of Ar + H2 plasma on the low temperature ITO film synthesis on polymer
Chang S. Moon, Yun M. Chung, M. Gaillard, Jeon G. Han
한국재료학회 2006년 봄 학술대회 |
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OES를 이용한 평판형 유도결합 BCl3/SF6 플라즈마 식각 특성 연구|A Study of Etching Characteristic in Planar Inductively Coupled BCl3/SF6 Plasma by OES
박민영, 이제원, 장수욱, 노호섭, 조관식, 박강수, 박건수, 윤진성
한국재료학회 2005년 가을 학술대회 |
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Deposition of SiOx films from HMDSO/O2 plasma under continuous wave and pulsed modes
김성룡, 박종만
한국고분자학회 2004년 가을 학술대회 |
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Deposition of SiOx films from HMDSO/O2 on polymeric substrates
김성룡, 김곤호
한국고분자학회 2004년 봄 학술대회 |
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ECR plasma etching을 이용한 2차원 photonic crystal structure 제작 및 특성평가에 관한 연구|A study on fabrication and evaluation of characteristics of 2-dimensional photonic crystal structure using ECR plasma etching
문강훈, 신수범, 안진호
한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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니켈회수공정 중 Hybrid 음이온교환체를 이용한 제산 공정 특성에 관한 연구
조상연, 황택성, 이철호*
한국고분자학회 2002년 가을 학술대회 |
