화학공학소재연구정보센터
번호 제목
5 Tungsten Nitride Chemical Vapor Deposition for Cu Diffusion Barrier Using W(CO)6
이호기, 용기중
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회
4 반응성 스퍼터링에 의한 TiAlN 박막의 증착|TiAlN thin film deposition by reactive sputtering
송영수, 변요한, 김혜인, 윤진구, 정지원|Young Soo Song, Yo Han Byun, Hye In Kim, Jin Koo Yoon, Chee Won Chung
한국화학공학회 2002년 봄 학술대회
3 Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)를 이용한 다이아몬드 박막 증착|Diamond Thin Film Deposition by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)
원종각, 김종성, 홍근조, 권상직|Jongkak Won, Jongsung Kim, Kunjo Hong, Sangjik Kwon
한국화학공학회 1999년 가을 학술대회
2 [2.2]Paracyclophane의 열분해에 의한 poly-p-xylxylene 박막의 증착|Deposition of poly-p-xylylene films by pyrolysis of [2.2]paracyclophane
김철진, 김의정|Chul Jin Kim, Eui Jung Kim
한국화학공학회 1998년 가을 학술대회
1 [2.2]파라사이클로팬으로부터 패릴린 박막의 증착|Deposition of parylene films from [2.2]paracyclophan
선우웅, 김철진, 김의정|Woong Sunwoo, Chul Jin Kim, Eui Jung Kim
한국화학공학회 1997년 가을 학술대회