번호 | 제목 |
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Tungsten Nitride Chemical Vapor Deposition for Cu Diffusion Barrier Using W(CO)6 이호기, 용기중 한국화학공학회 2003년 봄 학술대회 |
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반응성 스퍼터링에 의한 TiAlN 박막의 증착|TiAlN thin film deposition by reactive sputtering 송영수, 변요한, 김혜인, 윤진구, 정지원|Young Soo Song, Yo Han Byun, Hye In Kim, Jin Koo Yoon, Chee Won Chung 한국화학공학회 2002년 봄 학술대회 |
3 |
Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD)를 이용한 다이아몬드 박막 증착|Diamond Thin Film Deposition by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition(MPCVD) 원종각, 김종성, 홍근조, 권상직|Jongkak Won, Jongsung Kim, Kunjo Hong, Sangjik Kwon 한국화학공학회 1999년 가을 학술대회 |
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[2.2]Paracyclophane의 열분해에 의한 poly-p-xylxylene 박막의 증착|Deposition of poly-p-xylylene films by pyrolysis of [2.2]paracyclophane 김철진, 김의정|Chul Jin Kim, Eui Jung Kim 한국화학공학회 1998년 가을 학술대회 |
1 |
[2.2]파라사이클로팬으로부터 패릴린 박막의 증착|Deposition of parylene films from [2.2]paracyclophan 선우웅, 김철진, 김의정|Woong Sunwoo, Chul Jin Kim, Eui Jung Kim 한국화학공학회 1997년 가을 학술대회 |