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번호	제목
18	다이렉트 플라즈마와 리모트 플라즈마 원자층 증착법으로 증착한 하프늄 산화막의 물리적, 전기적 특성에 관한 연구\|The Characteristics of HfO₂ Thin High-k Gate Oxide Deposited by Direct and Remote Plasma Atomic Layer Deposition Methods. 김인회, 국승우, 김석훈, 전형탁 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
17	원자층 증착법으로 SiO₂ 박막이 코팅된 BaMgAl₁₀O₁₇:Eu²⁺ 형광체 분말의 발광 특성 향상\|Improvement of Luminescent Properties of BaMgAl₁₀O₁₇:Eu²⁺ Phosphor Powder Coated SiO₂ Thin Films by Atomic Layer Deposition 김휴석, 김민완, 김형수, 김혁종, 정영규, 김석환, 이상우, 최병호 한국재료학회 2005년 가을 학술대회
16	Investigation of WN growth by Atomic Layer Deposition using a new precursor ; (t-BuN)₂(NMeEt)₂W 김은정, 김도형 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
15	Preparation of Cu thin films By Remote Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition using Copper(Ⅱ) dimethylamino-2-propoxide 윤동준, 김도형 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
14	Preparation of TaN thin film By H₂ Plasma Assisted Atomic Layer Deposition usingTert-butylimino-tris-ethylmethylamino tantalum 김등관, 김도형 한국화학공학회 2005년 봄 학술대회
13	45 nm 테크놀로지와 그 이후를 위한 금속계 나노 박막의 원자층 증착법\|ALD of metal nanofilms for 45 nm technology and beyond 김형준 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
12	원자층 증착법으로 HfO₂ 박막이 코팅된 ZnS 형광체 분말의 발광 특성 향상\|Improvement of Luminescent Properties of ZnS Phosphor Powder Coated HfO₂ Thin Films by Atomic Layer Deposition Method 김형수, 김혁종, 김민완, 김휴석, 김석환, 이상우, 최병호 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
11	PEALD 방법으로 증착된 La₂O₃ 게이트 산화물 박막의 전기적 특성\|Electrical properties of lanthanum oxide films deposited by Plasma Enhenced Atomic Layer Deposition 이은주, 김범용, 고명균, 박종완 한국재료학회 2005년 봄 학술대회
10	Preparation of TaN thin film By Plasma Assisted Atomic Layer Deposition using Tert-butylimino-tris-diethylamino tantalum 김등관, 김도형 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
9	Hf(O-ⁱPr)₄를 이용하여 원자층증착한 HfO₂ 박막의 특성분석 김정찬, 허정식, 조용석, 문상흡 한국화학공학회 2004년 가을 학술대회