화학공학소재연구정보센터
번호 제목
55 Effect of annealing method on the characteristics of Cu2ZnSnS4 thin films prepared by sulfurizing the precursors deposited using co-sputtering method.
Jin A Kim, Jong Ha Moon, Jin Hyeok Kim
한국재료학회 2010년 봄 학술대회
54 Effect of a NiCo interlayer on the electrical and structural properties of nickel silicides
Jin-Bok Lee, Bong-Jun Park, Chel-Jong Choi, Tae-Yeon Seong
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
53 RF magnetron sputtering 법으로 증착한 ZnO박막의 열처리 효과
김명춘, 김좌연, 김재천
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
52 ALD법으로 성장시킨 ZnO 박막의 RTA 처리에 따른 전기적 특성변화
장삼석, 김범준, 박지훈, 김영석, 변동진
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
51 RF 스퍼터링을 이용한  ZnO:Sb 박막의 열처리의 따른 결정성과 미세구조
정민호, 진용식, 채길병, 장혜빈, 최대규
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
50 Crystalline Cr2O3 thin films growth by using RF magnetron sputtering at room temperature
정상용, 이진복, 전준우, 이상민, 나현석, 성태연
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
49 The effects of TCO/a-Si:H layer on silicon hetero-junction solar cells
탁성주, 강민구, 이승훈, 박성은, 이준성, 이정철, 김동환
한국재료학회 2009년 봄 학술대회
48 Properties of lanthanum oxide deposited by electron cyclotron resonance atomic layer deposition
Byung-woo Kang, Woong-sun Kim, Dae-yong Moon, Jong-wan Park
한국재료학회 2008년 가을 학술대회
47 RTA(Rapid Thermal Annealing)을 이용한 티타네이트 나노튜브의 구조분석
이남희, 오효진, 이대걸, 윤영웅, 김선재
한국재료학회 2008년 가을 학술대회
46 Electrical property of Al2O3 deposited in low temperature by sputtering process
Bong Seob Yang, Myung Soo Huh, Hyeong Joon Kim
한국재료학회 2008년 가을 학술대회