| 번호 | 제목 |
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CMOS 적용을 위하여 질소플라즈마 효과를 이용한 초박막 HfO2 게이트 유전체의 전기적, 신뢰성 특성 평가|Electrical and reliability characteristics of ultra-thin HfO2 gate dielectrics by N2 plasma treatment for CMOS application 김전호, 최규정, 윤순길, 이원재, 김진동 한국재료학회 2004년 가을 학술대회 |
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MOMBE로 성장한 고유전 HfO2 박막의 전기적 특성|Properties of high-k HfO2 films grown by MOMBE 문태형, 함문호, 김명석, 윤일구, 명재민 한국재료학회 2004년 봄 학술대회 |
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고유전체 전극물질로서의 TaN 응용가능성 연구|Research on applicability of TaN as an electrode material for high-k dielectrics 김영순, 이태호, 안진호 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
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CVD법으로 제작한 (1-x)Ta2O5–xTiO2 박막의 열처리 온도에 따른 특성변화|Characteristics of (1-x)Ta2O5–xTiO2 thin film at various annealing temperature by CVD 강필규, 진정근, 강호재, 노대호, 안재우, 변동진 한국재료학회 2003년 가을 학술대회 |
