화학공학소재연구정보센터
번호 제목
24 펄스 플라즈마 공정에서의 플라즈마 화학 분석
김교선, 김동주
한국화학공학회 2004년 가을 학술대회
23 단분산 TiO2 구의 제작 및 응용|Fabrication of Monodisperse TiO2 Spheres and Its Applications
표영신, 황진하
한국재료학회 2004년 가을 학술대회
22 LTCC 저유전율 배선기판과 중유전율 기능성 기판사이의 물리적 화학적 매칭|The physical and chemical matching between low-K and middle-K LTCC composition
박재환, 최영진, 박정현, 고원준, 제해준, 김병국, 박재관
한국재료학회 2004년 봄 학술대회
21 Adamantane 그룹을 함유하는 저유전성 폴리이미드의 응력거동
유동근, 임상균, 윤태호, 김덕준
한국화학공학회 2003년 가을 학술대회
20 MOCVD법을 이용하여 증착된 (Ba,Sr)RuO3 박막의 특성평가|CHARACTERIZATION OF (Ba,Sr)RuO3 FILMS DEPOSITED BY MOCVD
김병수, 김윤수, 김현철, 최덕균
한국재료학회 2003년 가을 학술대회
19 분자 공극을 함유한 저유전성 bis(4-aminophenyl)-1-adamantyl phosphine oxide로 합성된 폴리이미드의 물성 및 특성 분석
유동근, 윤태호, 최정훈, 김영준, 김덕준
한국화학공학회 2003년 봄 학술대회
18 양이온성 η3-알릴팔라듐 전이금속 촉매를 사용한 폴리노보넨 공중합체의 비닐부가 용액중합 거동
안재철, 박수현, 이광희, 박기홍
한국고분자학회 2003년 가을 학술대회
17 후전이금속 촉매를 이용한 노르보르넨 중합체 제조 및 성질
강성훈;이동호
한국고분자학회 2003년 봄 학술대회
16 나노 기공 구조를 가지는 절연막의 반도체 응용 현황
정현담
한국고분자학회 2003년 봄 학술대회
15 CHF3 플라즈마에서 다공성 저유전율 물질 식각의 각도 의존성|Angular Dependence of Porous Low-k Material Etch Rate in a CHF3 Plasma
황성욱,이겨레,민재호,문상흡|Sung-Wook Hwang,Gyeo-Re Lee,Jae-Ho Min,Sang Heup Moon
한국화학공학회 2002년 가을 학술대회