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3D NAND 구조내의 Si3N4의 선택적 식각을 통한패턴 SiO2 식각 제어
손창진, 김태현, 박태건, 임상우
한국화학공학회 2021년 봄 학술대회 |
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Green manufacturing of silyl-phosphate for use in 3D NAND flash memory fabrication
이현일, 이평수
한국공업화학회 2021년 봄 학술대회 |
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Ferroelectric HfZrO Film Enabling Non-Volatile Memory Cell in the Amorphous Indium Gallium Zinc Oxide Semiconductor
박주휘, 정재경
한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
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비인산계 용액 내 Si3N4/SiO2 선택적 식각 반응 및 첨가제의 영향 연구
손창진, 임상우
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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인산 기반 용액을 이용한 Si3N4/SiO2 선택적 식각의 고온에서의 경향 연구
박태건, 김태현, 손창진, 임상우
한국화학공학회 2019년 가을 학술대회 |
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Flexible Si-based NAND Flash Memory via roll technology
남궁훈, 이건재, 김도현
한국재료학회 2019년 가을 학술대회 |
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제1원리와 실험을 통한 인산기반 용액을 이용한 Si3N4/SiO2 선택적 식각 메카니즘 규명
박태건, 임상우
한국화학공학회 2018년 가을 학술대회 |
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The effect of plasma treatment during deposition process on remote plasma atomic layer deposited silicon nitride for charge trap layer
장우출, 김현정, 권영균, 신석윤, 임희우, 정찬원, 조해원, 전형탁
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
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Flexible NAND Flash Memory by Roll Transfer
Do Hyun Kim, Gyeong Cheol Park, Keon Jae Lee
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
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Retention and Endurance characteristics of TaOx ReRAM with multi-level switching
차익수, 주병권, 주현수
한국재료학회 2017년 봄 학술대회 |
