번호 | 제목 |
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원자층 증착법(ALD)을 이용한 Vanadium oxide 박막 제작 및 전기적 특성 분석 이왕곤, 서형탁, 최효빈, 신희철, 안영환, 김지웅 한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
42 |
HfO2-x 게이트 절연막과 indium-zinc oxide 채널층을 갖는 박막트랜지스터의 이온 이동 기반 비휘발성 메모리 소자 연구 한지민, 정보영, 윤태식 한국재료학회 2021년 가을 학술대회 |
41 |
징케이트 전처리에 의한 알루미늄 패드와 친환경 Ni 무전해 도금 이연승, 나사균 한국재료학회 2021년 봄 학술대회 |
40 |
Enhancement-Mode Gallium Nitride Heterojunction Field-Effect Transistors 차호영, 장원호, 김정진 한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
39 |
E-beam을 이용한 Vanadium oxide film의 수직방향 MIT 거동 및 Si/VOx 계면특성 분석 최효빈, 이왕곤, 강현우, 임재성, 신희철, 서형탁 한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
38 |
Power MOSFET Cu clip 접합을 위한 MOSFET Source 박막 개발 김다정, 원미소, 김수성, 오철민 한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
37 |
낮은 일함수 적용을 위한 원자층 증착법으로 형성된 TaAl 금속 전극 김위남, 최문석, 이주현, 김민혁, 최창환 한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
36 |
Al2O3 ALD 게이트 절연막 적용 4H-SiC 기반 전력 소자 연구 최경근, 김성규 한국재료학회 2020년 봄 학술대회 |
35 |
P와 B의 첨가제에 따른 Ni무전해 도금막의 특성조사 나사균, 이연승 한국재료학회 2018년 가을 학술대회 |
34 |
Vertically Selective Pt Deposition on 3D Nanostructures by Ion-Implantation and Atomic Layer Deposition 김우희, Stacey F. Bent 한국재료학회 2017년 가을 학술대회 |