화학공학소재연구정보센터
번호 제목
52 A Study on the Characteristics of Low Temperature Si3N4 Thin Films Deposited in a Space Divided PEALD System
이백주, 서동원, 황재순, 최재욱
한국재료학회 2020년 봄 학술대회
51 Characteristics of Fine Screen-Printed Active Electrodes for Bio-Electrochemical Optic Sensors
Hyejin Kim, Seung Hwan Lim, Dami Kim, Sae-Ho Kim, Jaekyun Kim, Hyunduk Kho, Hyun-Ku An, Ji Hun Park
한국재료학회 2019년 봄 학술대회
50 Characteristics of High Accelerating Heat Films on Wide-Stretchable Polymer Substrates
Seung-Yeon Lee, Seong-Hwan Lim, Yeojo Yoon, Jaekyun Kim, Hyunduk Kho, Ji Hun Park
한국재료학회 2019년 봄 학술대회
49 Epitaxial Growth of Crystalline Nickel Boride on Ni(111) passivated by Hexagonal Boron Nitride
마경열, 신현석
한국공업화학회 2019년 봄 학술대회
48 Characteristics of SiNx thin films by Remote Plasma Atomic Layer Deposition using DTDN2-H2 precursor
임경필, 전형탁, 김현준, 정찬원, 조해원
한국재료학회 2018년 가을 학술대회
47 LPCVD of tin on Ni-based wires to control their electrical resistivity
박창진, 김준현, 김창구
한국화학공학회 2017년 봄 학술대회
46 The effect of plasma treatment during deposition process on remote plasma atomic layer deposited silicon nitride for charge trap layer
장우출, 김현정, 권영균, 신석윤, 임희우, 정찬원, 조해원, 전형탁
한국재료학회 2017년 봄 학술대회
45 9Remote plasma ALD of Silicon nitride at low temperature for gate spacer
김만석, 장우출, 김현정, 이재민, 이건영, 신창희, 권영균, 임희우, 전형탁
한국재료학회 2016년 가을 학술대회
44 Surface treatment of Ni-Cr wires for fusible resistors
박정근, 김준현, 김창구, 강두원, 이경미
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회
43 Fabrication and characterization of double structured tin oxide films
박창진, 박정근, 김창구
한국화학공학회 2016년 봄 학술대회